Temat: Konkurs architektoniczny na projekt pawilonu polskiego na Wystawę Światową EXPO 2010 w Szanghaju.
Lokalizacja: Szanghaj, Chiny
Rozstrzygnięcie konkursu: 2007-12-11
Organizator: Polska Agencja Informacji i Inwestycji Zagranicznych S.A.

<<< powrót

I nagroda

II nagroda

  • K. Ingarden, J. Ewy Architekci sp. z o.o.

III nagroda

  • Valode et Pistre Architekci Sp. z o. o.

wyróżnienie

  • EBING&PARTNERS sp. z o.o.

wyróżnienie

  • ARCA A & C Sp.z. o.o.

wyróżnienie

  • Autorskie Studio Architektury Sp. z o.o.

wyróżnienie

  • Biuro Architektoniczne „Limba” s.c. Anna i Juliusz Husarscy

wyróżnienie

  • ATP Tomasz Podzielny

RONET - Zbigniew Filipek Biuro: 32-020 Wieliczka, ul. Zacisze 16, NIP: 677-133-92-83,
Konto bankowe: BANK PEKAO SA 03 1240 1431 1111 0010 2980 4734, tel: 608 835 030,
e-mail: biuro.ronet@wp.pl, ronet@ronet.pl